首页 > 聚焦 > > 内容页

九峰山实验室6寸碳化硅中试线通线

2023-08-14 06:19:57 湖北日报


(资料图)

湖北日报讯(记者张真真、通讯员张希为)8月1日,九峰山实验室6寸碳化硅(SiC)中试线全面通线,首批沟槽型MOSFET(金属-氧化物半导体场效应晶体管)器件晶圆下线。至此,该实验室已具备碳化硅外延、工艺流程、测试等全流程技术服务能力。

碳化硅(SiC)沟槽结构因其可增加单元密度等独特优势,被认为是碳化硅MOSFET器件未来的主流设计,国内尚处于追赶阶段。

九峰山实验室在充分调研及大量验证测试的基础上,充分梳理关键工艺及工艺风险点,周密制定开发计划,在4个月内连续攻克碳化硅(SiC)器件刻蚀均一性差、注入后翘曲度高、栅极底部微沟槽等十余项关键工艺问题,系统性地解决了一直困扰业界的沟槽型碳化硅MOSFET器件的多项工艺难题。

SiC是化合物半导体材料,具备极好的耐压性、导热性和耐热性,是制造功率器件、大功率射频器件的突破性材料。在智能网联汽车、新能源储能等新兴赛道的高速牵引下,化合物半导体快步走向台前。

瞄准化合物半导体领域,作为九大湖北实验室之一的九峰山实验室,成立于2021年,不到两年便建设完成,今年3月投运,已建成目前全球化合物半导体产业最先进、规模最大的科研和中试平台,以及先进的专业检测平台。

今年3月,九峰山实验室8寸线已实现第一批研发产品样品交付。

该实验室相关负责人表示,未来将继续以基础性、前瞻性、特色性的原创成果和优质资源支持产业界解决关键工艺难题,为合作伙伴提供中立、开放的创新工艺研发平台,加速技术创新。

湖北日报客户端,关注湖北及天下大事,不仅为用户推送权威的政策解读、新鲜的热点资讯、实用的便民信息,还推出了掌上读报、报料、学习、在线互动等系列特色功能。

上一篇:机械增压和涡轮增压有什么区别(机械增压)

下一篇:最后一页

x
热点聚焦